Suman Kumari

notre poque, les appareils lectroniques tels que les t l phones mobiles, les ordinateurs, les ordinateurs portables, les capteurs et bien d'autres appareils sont devenus une n cessit pour les hommes en mati re de soins de sant , de mode de vie agr able et d'ex cution rapide et facile des t ches. Diff rents types de capteurs de temp rature, de biocapteurs, de photocapteurs, etc. ont t mis au point pour r pondre aux besoins de la population. Tous ces dispositifs contiennent des puces fabriqu es l'aide de diodes, de transistors, de portes logiques et de circuits int gr s. Le modelage du substrat utilis pour le d veloppement ult rieur de ces dispositifs est effectu l'aide d'une technique connue sous le nom de lithographie. Dans le pr sent travail, nous avons pass en revue les diff rents types de techniques lithographiques telles que la lithographie optique, la lithographie dans l'ultraviolet extr me, la lithographie par faisceau d' lectrons, la lithographie par rayons X et la lithographie par faisceau d'ions. Les volutions de ces techniques au fil du temps et leurs applications dans la fabrication de dispositifs sont examin es. Les diff rents outils d'exposition d velopp s au cours de la derni re d cennie pour am liorer la r solution des dispositifs sont galement abord s. Les r sines amplifi es chimiquement et non amplifi es chimiquement, leur liaison et leur paisseur sont abord es.

In quest'epoca, i dispositivi elettronici come telefoni cellulari, computer, computer portatili, sensori e molti altri dispositivi sono diventati una necessit per l'uomo per l'assistenza sanitaria, per uno stile di vita piacevole e per svolgere le attivit in modo rapido e semplice. Per soddisfare le esigenze delle persone sono stati sviluppati diversi tipi di sensori di temperatura, biosensori, fotosensori, ecc. Tutti questi dispositivi hanno al loro interno chip fabbricati con diodi, transistor, porte logiche e circuiti integrati. La modellazione del substrato utilizzato per l'ulteriore sviluppo di questi dispositivi avviene con l'aiuto di una tecnica nota come litografia. Nel presente lavoro, abbiamo fatto una rassegna di diversi tipi di tecniche litografiche come la litografia ottica, la litografia a raggi ultravioletti estremi, la litografia a fascio di elettroni, la litografia a raggi X e la litografia a fascio di ioni. Vengono discusse le evoluzioni di queste tecniche nel tempo e le loro applicazioni nella fabbricazione di dispositivi. Vengono inoltre discussi i diversi strumenti di esposizione sviluppati nell'ultimo decennio per migliorare la risoluzione dei dispositivi. Vengono discusse le resine amplificate chimicamente e quelle non amplificate chimicamente, con i relativi legami e spessori.

In der heutigen Zeit sind elektronische Ger te wie Mobiltelefone, Computer, Laptops, Sensoren und viele andere Ger te f r den Menschen zu einer Notwendigkeit geworden, um sich zu versorgen, einen angenehmen Lebensstil zu f hren und Aufgaben schnell und einfach zu erledigen. Verschiedene Arten von Temperatursensoren, Biosensoren, Fotosensoren usw. wurden entwickelt, um die Bed rfnisse der Menschen zu erf llen. In all diesen Ger ten befinden sich Chips, die mit Dioden, Transistoren, Logikgattern und ICs hergestellt werden. Die Strukturierung des Substrats, das f r die weitere Entwicklung dieser Ger te verwendet wird, erfolgt mit Hilfe einer Technik, die als Lithographie bekannt ist. In der vorliegenden Arbeit haben wir einen berblick ber verschiedene Arten von Lithografietechniken wie optische Lithografie, Extrem-Ultraviolett-Lithografie, Elektronenstrahl-Lithografie, R ntgenstrahl-Lithografie und Ionenstrahl-Lithografie gegeben. Die Entwicklung dieser Techniken im Laufe der Zeit und ihre Anwendungen bei der Herstellung von Bauelementen werden er rtert. Es wird auch auf verschiedene Belichtungswerkzeuge eingegangen, die in den letzten zehn Jahren entwickelt wurden, um die Aufl sung der Bauelemente zu verbessern. Es werden chemisch verst rkte und nicht chemisch verst rkte Resists mit ihren Bindungen und Dicken diskutiert.

Nesta era, os dispositivos electr nicos, tais como telem veis, computadores, computadores port teis, sensores e muitos outros dispositivos, tornaram-se uma necessidade para o homem em termos de cuidados de sa de, de um estilo de vida agrad vel e de execu o r pida e f cil de tarefas. Foram desenvolvidos diferentes tipos de sensores de temperatura, biossensores, fotossensores, etc., para satisfazer as necessidades das pessoas. Todos estes dispositivos possuem chips fabricados com d odos, trans stores, portas l gicas e circuitos integrados. A modela o do substrato que utilizado para o desenvolvimento destes dispositivos efectuada com a ajuda de uma t cnica conhecida por Litografia. No presente trabalho, procedemos a uma revis o de diferentes tipos de t cnicas litogr ficas, como a litografia tica, a litografia de ultravioleta extremo, a litografia de feixe de electr es, a litografia de raios X e a litografia de feixe de i es. S o discutidas as evolu es registadas nestas t cnicas ao longo do tempo e as suas aplica es no fabrico de dispositivos. S o tamb m abordadas diferentes ferramentas de exposi o desenvolvidas na ltima d cada para melhorar a resolu o dos dispositivos. S o abordadas as resinas quimicamente amplificadas e n o quimicamente amplificadas, bem como a sua liga o e espessura.

In this era, electronic devices such as mobile phones, computers, laptops, sensors, and many more devices have become a necessity for men for healthcare, a pleasant lifestyle, and to do tasks quickly and easily. Different types of temperature sensors, biosensors, photosensors, etc. have been developed to meet the necessities of the people. All these devices have chips inside them fabricated using diodes, transistors, logic gates, and ICs. The patterning of the substrate which is used for the further development of these devices is done with the help of a technique known as Lithography. In the present work, we have done a review on different types of lithographic techniques like optical lithography, extreme ultraviolet lithography, electron beam lithography, x-ray lithography, and ion beam lithography. The evolutions made in these techniques with time and applications of these techniques in device fabrication are discussed. Different exposure tools developed in the last decade to enhance the resolution of the devices are also discussed. Chemically amplified and non-chemically amplified resists with their bonding and thickness are discussed.