Stress Induced Voiding & Electromigration Analysis of Cu-Cu bonds – hinnat ja saatavuus
Kirjafiili on kirjojen hintavertailu. Löydä halvin hinta 27 kirjakaupasta. Hintavertailu koskee ISBN-tunnusta 9786139858248 (pokkari).
Kirjan kuvaus
Face to Face Stacking on Wafer to Wafer (WoW) can be done for the Cu-Cu direct bonding interconnects. A good mechanical strength to sustain shear force during thinning can be achieved by Cu bonding. While making reliable interconnect… Näytä koko kuvaus Piilota kuvaus
Face to Face Stacking on Wafer to Wafer (WoW) can be done for the Cu-Cu direct bonding interconnects. A good mechanical strength to sustain shear force during thinning can be achieved by Cu bonding. While making reliable interconnect structures has been a persistent challenge. Stress results from material deposition, thermal expansion mismatch, and electromigration. Material deposition inevitably generates stress. Materials in interconnect structures, selected to function as conductors, dielectrics, or barriers, have dissimilar thermal expansion coefficients. The driving force comes from the stress built up due to grain growth and the thermal expansion mismatch (CTE) between Cu interconnect and dielectrics. The void space is then created in order to release the resulting stress. Also the electromigration phenomena caused due to current stressing and creates a void. So in this project, I worked on Stress Induced Voiding and Electromigration of Cu-Cu direct bonding sample with bonding temperature of 300C.
Kirjan tiedot
Vertaa kirjan ”Stress Induced Voiding & Electromigration Analysis of Cu-Cu bonds” hintoja
Vertaa tuotteen hintaa ja arvioitua kokonaishintaa toimitettuna. Kaikki hinnat koskevat ISBN-tunnusta 9786139858248.
Hintoja ei päivitetty automaattisesti. Voit hakea ajantasaiset hinnat painamalla Hae hinnat.
Booky
Suomalainen
Kansallinen Kirjakauppa
Prisma
Finlandia Kirja
Fantasiapelit
Vinhan kirjakauppa
CDON
Kustantamo S&S
Kennys.ie
Kristillinenkirjakauppa.fi
Sacrum
Adlibris
BookOutlet.fi
Kirja.fi
Rosebud
Tälle kirjalle ei ole tällä hetkellä vahvistettua hintaa. Tarkista tilanne myöhemmin uudelleen.
Hintoja ei ole vielä päivitetty.
Hälytys tallennettu!
Ilmoitamme, kun hinta laskee.
Saat sähköpostin, kun hinta laskee asettamaasi rajaan tai sen alle.
Stress Induced Voiding & Electromigration Analysis of Cu-Cu bonds – hintahistoria
Seuraamme kirjan Stress Induced Voiding & Electromigration Analysis of Cu-Cu bonds hintakehitystä kirjakaupoissa. Taulukosta näet viime kuukausien alimmat hinnat.
Alin hinta kauppoittain
Kunkin kaupan alin hinta viimeisten 90 päivän aikana.
Hintahistoriaa ei ole vielä kerätty tälle kirjalle.
Hinnat ilman toimituskuluja.